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<吉致电子>铜化学机械抛光液赋能AI/5G芯片高性能封装(Cu CMP )
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TSV技术的核心挑战与吉致电子的CMP解决方案在复杂的TSV制造工艺里,铜化学机械抛光(CMP)是极为关键的一环,直接决定着互连结构的平整度与可靠性。吉致电子依托在材料研发领域的深厚积累,强势推出高性能 TSV CMP CU Slurry(铜化学机械抛光液),为3D先进封装打造了高效且稳定的抛光解决方案。
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1楼
2025-06-05 16:59
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铜化学机械抛光液---什么是TSV技术?
TSV全称为:Through -Silicon-Via,中文译为:硅通孔技术。
它是通过在芯片和芯片之间、晶圆和晶圆之间制作垂直导通;TSV技术通过铜、钨、多晶硅等导电物质的填充,实现硅通孔的垂直电气互连,实现芯片之间互连的最新技术。
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2025-06-05 17:00
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2025-07-29 18:06:56
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吉致电子 TSV CMP CU Slurry(铜化学机械抛光液)
超快铜去除速率(RR Cu):优化配方实现高效抛光,提升生产效率;
高选择比与均匀性:精准控制抛光过程,减少缺陷,确保晶圆表面平整;
卓越的工艺稳定性:适用于大规模量产,保障良品率与一致性。
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3楼
2025-06-05 17:01
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如果您正在寻找半导体TSV Slurry 铜化学机械抛光液的CMP抛光优化方案,欢迎联系我们,获取定制化产品推荐与技术支援!
https://www.jzdz-wx.com
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2025-06-09 17:07
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