易用性：HyperLith的图形用户界面（GUI）设计得非常简洁，特别适合mask-in-stepper lithography仿真。用户可以选择预定义的掩模技术、图案和抗蚀剂模型，或者自定义这些设置1。
灵活性：用户可以根据需要选择不同的仿真技术，如DUV、Immersion、EUV等，并且可以处理严格/标量、偏振、像差和抗蚀剂模型1。
分布式计算支持：HyperLith支持SimRunner，这是一种分布式计算和硬件加速工具，可以显著提高仿真效率1。
结果展示：LiveView GUI允许用户查看近似模拟结果，并且可以导出.sim文件，适用于EM-Suite 32/64位版本的Windows和Linux系统1。
这些特点使得HyperLith成为一个既强大又易于使用的仿真工具，适用于各种光刻技术的研发和优化。