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在集成电路生产中，超纯水主要用于清洗硅片，少量水用于药液配制、硅片氧化蒸汽源、部分设备冷却水和电镀液配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(k、Na等)会使绝缘膜的耐压变差，重金属(AU、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压，III族元素(B、Al、GA等)会使n型半导体的特性恶化，V族元素(P、as、Sb、，等)会恶化p型半导体的特性，水中细菌经高温碳化后的磷(约20%～50%的灰分)会使p型硅片上的局部区域变成n型硅，导致器件性能的恶化。如果

芯片产业供应链十分复杂，包括设计、制造、组装、封装及测试等，每一环节都有其困难度。芯片生产对水质要求严格，传统超纯水制备工艺通常采用离子交换树脂进行，此工艺需要进行树脂再生，既耗费物力又耗费人工。莱特莱德超纯水设备通过双级反渗透系统+EDI模块的处理工艺，严格执行国家环保政策，可确保处理后的水稳定达标。

在半导体制程中，制造集成电路的体积越来越小，晶圆上的元件也随之减小，使各种有机物质、微粒的接触污染和各台面产生的金属杂质等污染物大于或等于元件尺寸的现象更为严重，如果在半导体制程中有污染物残留在晶圆表面，会造成元件短路或缺陷，使集成电路无法使用，因此，半导体制程中不允许残留污染物。在半导体工艺过程中，污染物的去除是非常重要的一环，所以这个行业对超纯水的要求非常严格。

集成电路是一种微型电子器件或部件，它对于清洗用水的水质有着极高的要求，一旦清洗用水中含有杂质，就会产生水垢，影响其电阻率，影响其成品率，莱特莱德超纯水设备生产的超纯水的电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃)，完全符合集成电路清洗用水要求。

智能汽车是集环境感知、规划决策、多层次辅助驾驶等功能于一体的综合系统。它运用了计算机、现代传感器、信息融合、通信、人工智能和自动控制技术。这是一个典型的高科技综合体。近年来，智能汽车已成为世界汽车工程领域的一个热点，成为汽车工业发展的新动力。许多发达国家已将其纳入自己的智能交通系统。

在显像管和阴极射线管生产中，其萤光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层萤光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的萤火粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配置需要使用超纯水，如超纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。

微电子业的迅速发展将很大程度的推动超纯水行业的增长。在电子元器件的生产过程中，无论是清洗用水，还是溶液、浆料，都需要使用超纯水。集成电路的生产工艺是蚀刻和清洗反复进行，清洗是半导体制程中重要的一环，目的是为了清洗原材料及半成品上可能存在的杂质。全球半导体设备中80%为晶圆加工制造设备，清洗设备在其中占比约为8%。

在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片，少量水用于药水配制、硅片氧化的水蒸气源、部分设备的冷却水、电镀液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%) 会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗

据了解，一颗芯片要经过几十道工艺技术，每一道工艺或许都是代表着高科技水平，因此芯片在生产过程中对于用水水质的要求是非常高的，芯片中的杂质对电阻率的影响非常大。芯片中掺入微量杂质时，杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态。莱特莱德超纯水是指电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的水，这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，完全满足芯片生产用水需求，解决了我国当下的“芯”难题。

集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，芯片相当于电子行业的“大脑”，虽然只有指甲盖大小，但一个芯片板上要放上数十亿个纳米级别的晶体管。在芯片生产时80%以上的工序都需要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开水，因此半导体行业对于生产用水的水质要求也是相当严格，因为一旦水质不合格，或者是水中含有杂质，就会降低器件的性能，降低成品率，因此在生产时需要用到超纯水。芯片行业用水是否合格，也决定着产品是否能

化妆品早已融进了我们的日常生活并发挥着重要的作用，它可以让我们的生活变得更加精致，让人变得更加自信。近年来，涉及化妆品安全案例频发，甚至出现了“食品级”化妆品，然而这种说法却经不起推敲。“食品经口进入并由消化系统消化和吸收，在使用方法、作用机理等方面都与作为化工产品的化妆品完全不同，因此，‘食品级’化妆品这个说法并不成立。”食品研发工程师这样说道。

　　硅晶圆是硅半导体电路制作所用的硅晶片，晶圆是制造IC的基本原料。硅晶圆是电子行业制造中的基础材料，企业是否本土化已经成为了构建半导体产业链配套能力的关键。现如今，我国的硅晶圆来源主要依赖于进口，由于行业壁垒极高，国产国产硅晶圆还尚不成熟。 　　我国是消费电子产品的生产国、出口国和消费国，在国家政策的扶持下，我国众多电子企业纷纷开发硅晶圆研发新工艺，这也标志着我国硅晶圆产业有望进入黄金期。但硅晶圆对

高浓有机废水COD含量高、有机物成分复杂且难以降解，其主要有机物为苯酚及取代酚、杂环化合物、苯及取代苯、多环芳烃、长链烷烃，还含有氨氮和氰化物等污染物，处理难度很大。对人体具有致癌、致畸、致突变性，也对自然生态环境造成了很大破坏。

随着我国钢铁产能的过剩发展，焦化废水的数量也在与日俱增，再加上焦化行业新标准和综合排放标准对污染物排放指标的要求日趋严格，焦化废水的达标排放问题严重制约了焦化行业和钢铁行业的可持续发展。整个行业对经济合理、新型高效的焦化废水处理技术的需求非常迫切。

芯片是半导体元器件产品的总称。晶体管发明和大规模生产后，二极管、晶体管等各种固态半导体元件被广泛用于取代电路中真空管的功能和作用。到20世纪中后期，半导体制造技术的进步使集成电路成为可能。与使用单个分立电子元件手工组装电路相比，集成电路可以将大量微晶管集成到一个小芯片中，这是一个巨大的进步。集成电路的大规模生产能力、可靠性和电路设计的模块化方法确保了快速采用标准化集成电路而不是分立晶体管。

在光伏行业电子管生产中，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，如其配制超纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色，含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。

芯片的生产需要的硅片，在使用前必须彻底清洗。一块8英寸的硅片可以生产大约100块芯片，要达到所需的纯度需要2000加仑的超纯水。芯片设备和材料国际公司估计，2007年生产了1730万英寸的硅片，消耗的超纯水足以填满50万个奥运游泳池，这也从另一个方向反映出了芯片行业对于超纯水的需求量巨大。

　　硅片是用来制造硅半导体电路的硅片，晶片是制造集成电路的基本原料。硅片是电子工业生产中的基础材料，企业是否本土化已成为半导体产业链建设配套能力的关键。目前，我国硅片原料来源主要依靠进口，由于行业壁垒很高，国内硅片市场尚不成熟。 　　我们作为消费电子产品的生产、出口和消费国，在国家政策的支持下，许多电子企业都在开发硅晶圆的新工艺，这也标志着我国硅晶圆行业将进入黄金时期。但是硅片对纯度要求极高，所以

伴随着消费升级和人们生活水平的不断提高，智能手机、电视、电脑、摄像机、音响、游戏机等电子产品逐渐渗透到我们生活的各个领域，给人们带来了极大的方便。市场扩大的同时，电子产品也为电子行业带来了广阔的发展空间。

　　晶圆制造是半导体产业链的核心环节，对核心技术、研发人才和资金的门槛要求很高。目前随着消费电子产品的普及，更新迭代速度越来越快，对芯片的要求也越来越高。这使得国内半导体产业持续快速发展，带动晶圆代工市场不断完善。 　　由于半导体元件集成度高，生产线窄，对水质的要求特别高，超纯水成为了电子行业用水的“标配”。莱特莱德超纯水设备出水水质完全符合我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、12MΩ.cm、0.5M

芯片的生产需要的硅片，在使用前必须彻底清洗。一块8英寸的硅片可以生产大约100块芯片，要达到所需的纯度需要2000加仑的超纯水。芯片设备和材料国际公司估计，2007年生产了1730万英寸的硅片，消耗的超纯水足以填满50万个奥运游泳池，这也从另一个方向反映出了芯片行业对于超纯水的需求量巨大。

　随着集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段，集成电路芯片制造工艺中所要求的芯片表面的洁净度越来越高，为了保证芯片材料表面的洁净度，集成电路的制造工艺中存在数百道清洗工艺。了保证生产出超大规模的集成电路，除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外，超纯水也是其中关键的因素之一。那么冲洗芯片用的超纯水是怎样“炼成”的呢?

由于半导体在制作过程中对设计的需求朝着更精密更细小的趋势发展，因而对纯水水质的要求也越趋严格，而超纯水是一种除去水中离子之外，同时将水中之二氧化硅、颗粒物、细菌、有机物、微生物一并给予有限度的去除达到完全纯净程度的水质，常被应用在电子行业，因此超纯水设备成为了半导体行业用水的重要保障。

　　芯片产业、集成电路产业，受到中国政府高度重视。为了推动芯片产业高质量发展，我国还发布了促进集成电路产业和软件产业高质量发展的政策，对于集成电路企业自获利年度开始减免企业所得税，同时为企业搭建材料、工艺、设备等产业链平台。 　　因技术问题导致芯片全面紧缺亟待解决，广阔的市场前景等着去拓展。芯片行业在生产过程中对于用水水质的要求很高，所用超纯水的质量直接影响芯片效果，但超纯水重复利用率不高，所以对

　　芯片产业、集成电路产业，受到中国政府高度重视。为了推动芯片产业高质量发展，我国还发布了促进集成电路产业和软件产业高质量发展的政策，对于集成电路企业自获利年度开始减免企业所得税，同时为企业搭建材料、工艺、设备等产业链平台。 　　因技术问题导致芯片全面紧缺亟待解决，广阔的市场前景等着去拓展。芯片行业在生产过程中对于用水水质的要求很高，所用超纯水的质量直接影响芯片效果，但超纯水重复利用率不高，所以对

　超纯水设备是一种能够将水中的阴阳离子和各种杂质都驱除，最后只留下高纯度的纯水，水中除了水分子以外，是没有病毒、细菌等有机物，当然也没有人体所需的矿物质等微元素，本文将对于“超纯水设备可以应用于哪些领域”进行简单的介绍。 　　#超纯水设备#的超纯指的是电阻率达到18MQ*cm(25°C)的水，去除了氧和氢以外所有原子的水，其设备可用于超纯材料,半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等。 　　该设备可以应用于蒸馏、反渗透技术去

　　公开数据显示，截至8月9日，因疫情导致的汽车产量损失已达585.3万辆，其中，中国为112.2万辆。此次疫情，除了丰田外，长城汽车也受到了影响，预计将影响长城10万产能。 　　“缺芯潮”愈演愈烈，在芯片如此短缺的前提下，如何保障芯片成品的质量成为了重中之重。芯片的生产对水质的要求极高，一旦水中含有杂质，就会降低芯片的性能，让原本就短缺的芯片更加雪上加霜。莱特莱德超纯水设备用于生产电子芯片行业用水，可提升芯片生产品

　　硅片是用来制造硅半导体电路的硅片，晶片是制造集成电路的基本原料。硅片是电子工业生产中的基础材料，企业是否本土化已成为半导体产业链建设配套能力的关键。目前，我国硅片原料来源主要依靠进口，由于行业壁垒很高，国内硅片市场尚不成熟。 　　我们作为消费电子产品的生产、出口和消费国，在国家政策的支持下，许多电子企业都在开发硅晶圆的新工艺，这也标志着我国硅晶圆行业将进入黄金时期。但是硅片对纯度要求极高，所以

　　近年来，超纯水处理技术得到了较快的发展，超纯水设备得到了各大中小型企业的青睐，广泛应用于电子、电力、电镀、照明、造纸、日化、建材、涂料、电池、生物制药、石油化工、钢铁、玻璃、半导体等生产过程用纯水等领域。随着国民经济的不断发展，超纯水设备也迎来了发展的春天。 　　常规超纯水设备功能单一，仅有净化水的作用，在制备超纯水时操作不便，且不利于对处理后的水质、滤芯使用状态、紧急停水等进行监控，使制备出

　　什么是芯片?如今听到很多关于芯片的讯息，例如“中国芯”“卡脖子”“芯片短缺”等等。面对这些词语我们可能有些人一头雾水，我们先来认识一下什么是是芯片吧。 　　芯片是电子产品的核心原件，它是半导体元件产品的统称，我们又称之为集成电路。它诞生于1946年，从电子管变换成如今的小小的一片跨越了许多年。如今制造芯片的原材料是提纯多次才得到的高纯度硅，将其切割成6寸，12寸，18寸等不同的晶圆，在经过一道又一道工序，需

　　新版药典实施 制药用水要求提升 　　水参与制药生产的整个工艺流程，直接影响药品的质量，药品生产企业必须确保制药用水的质量符合药典要求。 　　新版药典实施后，18.2兆欧的水质仅是高精密的仪器用水要求的门槛。TOC，重金属杂质含量等指标需要全盘考虑，综合评估。对于ICP-MS用水，一方面，水质需达到超纯水标准外，另一方面，产水中金属杂质的含量也必须达到ppt乃至亚ppt水平。

作为电子行业常应用的水处理设备，超纯水处理系统有着自己独有的优势，为电子行业产出符合标准的超纯水。现如今，光伏发电、5G、芯片等领域的快速发展，超纯水设备应用逐渐增多，企业对于超纯水处理系统日常维护工作也开始逐渐上心，毕竟好的维护工作可以帮助设备延长使用寿命。

　　超纯水设备概念 　　我们都知道超纯水设备是一种广泛应用于电子行业的设备，大致就是可以将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的一种水处理设备。 　　超纯水设备设备工作原理 　　供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜外的离子，SHU脂截留水中的容存离子,被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向

　　超纯水的纯度已成为影响光学器件质量、产量和成本的重要因素之一，因此光学领域对水质的要求越来越高。同时，超纯水设备的性能直接影响超纯水的质量。 　　在生产中，超纯水主要用于纯水清洗和纯水溶液配制，不同工艺对纯水的使用和水质要求不同，如果水中含有氯离子，电容器会泄漏。在电子管的生产中，电子管的阴极涂有碳酸盐，如果混入杂质，会影响电子发射，进而影响电子管的放大性能和寿命。

如今，半导体、芯片等领域发展迅猛，我国芯片市场近几年来涌现出许多企业，面对芯片“卡脖子”的问题我国各方人才及企业都在不断努力突破。芯片领域的不断进步与突破也在催生着新技术、新产品、新产业的诞生，同时让许多与其息息相关的产业开始增产，超纯水制备产品就是其中之一。

超纯水设备工艺采用先进的RO反渗透+EDI或混床抛光技术，根据不同用户的需要，定制设计不同产水水质要求和不同产水流量要求的超纯水设备。

芯片是电子产品中的核心部件，生产工艺要求十分严格，芯片生产过程中水的需求量较大。芯片生产过程中使用的水不能是普通的自来水，自来水中含有很多的杂质、胶体等等，会破坏芯片的质量，所以生产厂家一般会选用超纯水设备对自来水进行处理，去除原水中的杂质、颗粒物等等，使产出的水符合电子芯片生产用水标准。

运行压力由溶液渗透压、净推动力和管路等的压降组成。渗透压与原水中的含盐量和水的温度成正比，与膜性能无关。净推动力是为了使膜元件(组件)产生足够量的产品水而需要的压力。对不同的膜，必须根据原水含盐量、膜元件(组件)的排列组合等因素，测算出合适的运行压力，以确保膜的长期安全运行。

精细化工超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。但在运行过程中，会出现产水速度变慢的情况。今天，小编就给大家介绍下超纯水设备产水速度变慢的处理方法吧。

我国是消费电子产品的生产国、出口国和消费国，在国家政策的扶持下，我国众多电子企业纷纷开发硅晶圆研发新工艺，这也标志着我国硅晶圆产业有望进入黄金期。但硅晶圆对纯度要求极高，因此对于水质也有着超高的要求，超纯水设备生产的水质可满足行业用水需求。

虽然整体彩电市场呈现下滑趋势，但以OLED产品高端市场保持负增长。据Omdia数据显示，今年上半年，在全球OLED电视市场，1500美元以上产品出货量保持增长态势。预计今年市场占有率将比去年的25.7%提高5.8个百分点，达到31.5%，明年将提高到41.2%。由于OLED面板是半导体的一种，因此对于清洗用水的需求非常高，莱特莱德超纯水设备出水可满足OLED清洗用水要求。

　　20世纪90年代以来，光学玻璃作为光电技术产业的基础和重要组成部分，在光传输、光储存和光电显示三大领域的应用突飞猛进。光学玻璃在生产过程中需要进行镀膜，但是在镀膜之前需要彻底清洗，否则会严重影响光学玻璃的显示质量，这也对光学玻璃清洗用水提出了更高的要求，超纯水可完全满足行业需求。 　　传统的超纯水制备工艺通常是采用离子交换树脂进行制取，但采用离子交换树脂停产需要进行树脂再生，既耗费物理又耗费人工。

　　1、防冻：超纯水抛光树脂的保存环境需在周围环境>40℃情况下，如果温度低于5℃，为防止树脂结冰，可以把树脂放在食盐水溶液中。 　　2、防干：由于超纯水抛光树脂在使用或储运中水份消失，导致树脂体积忽胀忽缩，从而造成树脂的破碎或机械强度降低，丧失或降低了离子交换能力。在发生此种情况时，切不可把树脂直接投落水中，而是先将其浸泡于饱和食盐水中，使其缓慢膨胀不致破碎。 　　3、防霉：超纯水抛光树脂长期放置在交换器

高温对反渗透膜的性能有很大影响。我们可以在数据中看到水温变高，反渗透膜的脱盐率会降低，这是成反比的。因为EDI超纯水设备在流量恒定时运行，水温的升高会导致设备粘度降低、水流量增加、工作压力降低并且盐排斥率降低。因此，当发现水温升高时，必须根据实际情况采取适当合理的措施进行调整和维护。

为了确保高纯水装置开机后能够稳定运行，我们在开启高纯水装置时一定要按照相关流程操作，避免因操作失误对设备造成损坏，尤其是设备中的核心部件很容易受到设备运行压力、温度、进水情况等条件所影响

　　1、净化水的效果减弱。堵塞的滤芯不仅使出水流量减小，过滤效果可能也会减弱，致使净水的纯度也降低，无法满足企业生产用水需求。 　　2、超纯水成套设备长期超负荷工作，不但费电，而且成本也会增高。现在的超纯水成套设备基本是逐级过滤的，如果滤芯被堵塞，水中的泥沙、铁锈等大颗粒杂质部分会跟随原水直接进入主机，让本来不是负责过滤大颗粒杂质的反渗透装置必须承担起这份外来的负担，超负荷工作，会加快缩短膜元件的使用

　芯片在生产过程中对用水要求十分严格，如果生产用水中含有任何杂质，都会直接影响芯片的品质，芯片超纯水设备成为了电子芯片生产中必不可少的配置，芯片超纯水设备在长期使用过程中难免会出现一些问题，当芯片超纯水设备出现不通电的现象是由什么原因造成的呢？

化妆品行业超纯水设备为化妆品生产提供安全用水，化妆品在生产过程中需要大量的纯水，如果水中含有杂质会直接影响化妆品的品质，因此，化妆品行业超纯水设备成为了该行业必不可少的装置。我们在使用化妆品行业超纯水设备难免会遇到一些问题。

超纯水处理设备产出的纯水能够满足合各行业的生产用水要求，一般客户对设备的安装并不是很了解，因为全程会有专业的技术人员现场进行操作，超纯水处理设备的安装是否合理会对设备的稳定运行造成直接的影响。